半導體制造技術作為信息時代制造的基礎，堪比工業時代的機床，是整個社會發展的基石和原動力。在國際產業分工格局重塑的關鍵時期，我國也提出了《ZG制造2025》，以通過智能制造實現由制造大國向制造強國的轉換。智能制造（工業4.0）的實現，以各種信息器件的使用為基礎，半導體制造技術正是其制造的核心技術。
       而氫氣作為半導體制造中的氣源，在半導體材料及器件制備中起到至關重要的作用。可在光電器件、傳感器、IC制造中應用。
       目前半導體工藝中氫氣主要用于退火、外延生長、干法刻蝕等工藝。
       退火是通過高溫加熱釋放材料內部應力從而改善材料質量的一種材料處理辦法，氫氣作為保護氣可以起到防止氧化等作用，多用于薄膜生長后釋放應力。
       氫氣也可以應用在化學氣相沉積（Chemical Vapor Depositon）薄膜生長。化學氣相沉積是一種利用固態-氣態反應、氣態-氣態反應生成薄膜的設備，如在CVD工藝中作為還原性氣體制備二維材料MOS2、WS2等；等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝中作為還原性氣體制備石墨烯、單晶硅、碳化硅等；電子回旋共振化學氣相沉積（ECR-CVD）中作為反應氣體在單晶硅襯底上制備金剛石薄膜；金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）設備中作為載氣制備光電材料GaN、AlGaN等。同時氫氣也可以在原子層沉積（Atomic Layer Deposition）中使用。
       氫氣在等離子體刻蝕（RIE/ICP）中作為反應氣體出現，等離子體刻蝕原理是利用反應氣體離化后與材料發生反應生成揮發性物質，從而實現材料圖形化，是半導體器件制備的工藝。
       普拉勒氫氣發生器目前已大量應用在以上工藝中，為半導體材料及器件制備提供的氣源。

       普拉勒Zxin打造拳頭產品:大流量高純氫氣發生器Hydrogen-17L可與普拉勒超純水機聯用，由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用。氫氣發生器缺水時，自動供給至氫氣發生器。多臺氫氣發生器可串聯使用，通過串聯控制線由一臺發生器控制其他發生器，實現產氣均勻分配。（以兩臺設備為例控制圖如下）

大流量高純氫氣發生器Hydrogen-17L主要技術參數

◎ 氫氣純度： 99.999-99.9999% 

◎ 氫氣流量：1m3 /h 

◎ 輸出壓力：0-80psi（約0.5MPa） 

◎ 壓力穩定性：< 0.001MPa 

◎ 供電電源：220V±10% 50HZ 

◎ 消耗功率：8kw 

◎ 純水需求：＞2MΩ&1L/h

◎ 氫氣容積：＜20L 

◎ 環境溫度：1-40℃ 

◎ 相對濕度：<85% 

◎ 海拔高度：＜2000米 

◎ 外形尺寸：80x90x100（WxDxH cm） 

◎ 凈重：約200kg

儀器特點

◎ 儀器的全部工作過程均由程序控制，自動恒壓、恒流，通過串聯控制線，可實現多組并聯使用。 

◎ 使用固態電解質（PEM）法產生氫氣，以超純凈水原料，以固體聚合物為電解質，貴金屬 做電極有效的除濕裝置，降低了原始濕度，純度穩定。 

◎ 操作方便使用時只需打開電源開關即可產氫，使用后無需泄壓，直接關閉電源即可。可連續使用，也可間斷使用，產氫量穩定不衰減。 

◎ 安全可靠：配有安全裝置，電解超純水制氫，無腐蝕、無污染，配有壓力控制，缺水自動監控，漏氣自動檢測。 

◎ 配備純水系統，完成自來水進水完成大流量的氫氣制備

堿液型和純水型氫氣發生器區別

氫氣發生器構造有開關電源、電解池，氣液分離系統、干燥系統，顯示控制系統幾大部分，其中zui核心的是電解池，按電解原理，分為堿液型和純水型兩大類，各有優缺點，現簡述如下：　氫氣發生器是實驗室小型現場制氫設備，具有制氫快、純度高、價格低、安裝方便、占用空間小等特點，分析實驗中常用于氣相色譜載氣、FID燃燒氣、催化反應等。

一、堿液型氫氣發生器 

是零極距堿液電解池，采用鎳絲網電極和石棉隔膜構成，使用時要一次性加入氫氧化鉀作為電解質，增加水的導電性達到電解目的。這種發生器的優點是價格相對低，故障率低，缺點是強堿溶液存在潛在危險，并有隨氣體輸出的風險，并且電解容易產生電解泥，有堵塞液路的可能性，需半年更換一次。

二、純水型氫氣發生器

是零極距純水電解池，采用SPE固態電解質薄膜作為導電介質，貴金屬導流板作為導電部件，使用時只需加入去離子純水，無高濃度堿液的任何潛在風險，安全可靠。純水型氫氣發生器的電解池全為板式，其技術核心有兩個，一是電解膜二是導流板。電解膜為固態離子膜上加載催化劑，成品膜的導電電流密度和催化劑效率為衡量其質量的兩個關鍵。

首先是價格上面的對比，純水型價格會比堿液型的價格高一些，如果預算有限，可以選擇堿液型氫氣發生器，堿液型氫氣發生器選擇購買的實驗室也多的，優勢是價格便宜。但對比純水型氫氣發生器來說相對麻煩一點，純水型氫氣發生器是直接加純水使用，堿液型氫氣發生器需要氫氧化鉀，并且等溶解冷卻后使用。這是兩者的差別。Peculiar系列超高純氫氣發生器可以連續可靠的產生純度*的氫氣，純度>99.9999%。從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶*告別實驗室，因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復存在。

Peculiar系列可以連續可靠的產生純度的氫氣，純度>99.9999%。從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶*告別實驗室，因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復存在。
只需去離子水和供電，即可產生氫氣，一次加水即可持續工作15天，成本極低。氫氣發生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。Hydrogen-500H系列氫氣發生器是GC 或GC/MS 載氣
的*選擇。與氦氣相比，使用氫氣作為載氣能提高分析速度及靈敏度。

主要技術參數
◎ 氫氣純度：99.9999%
◎ 氫氣流量：0-500ml/min
◎ 輸出壓力：0-0.5Mpa
◎ 壓力穩定性：< 0.0001MPa
◎ 供電電源：220V±10%, 50Hz
◎ 消耗功率：300W
◎ 外型尺寸：420×300×360mm
◎ 凈重：約14Kg
儀器特點
◎ 程序控制：儀器采用單片計算機控制，全自動工作，恒壓、恒流，氫氣流量可根據用量實現全自動調節；
◎ 操作方便：免運輸鋼瓶之勞，省搬運鋼瓶之苦，使用時只需打開電源開關即可產氫。可連續使用，也可間斷使用，產氫量穩定不衰減。不需要干燥劑(如：變色硅膠、分子篩等)，免維護；
◎ 超高純度：將產生的氫氣通過Peculiar鈀合金膜（技術）過濾，由于鈀合金具有只允許氫及其同位素通過的特性，因此產生氫氣的純度可確保持續達到99.99999%；
◎ 安全可靠：配有水位自動安全裝置，超壓控制安全裝置，由單片機智能控制，靈敏可靠。